專(zhuan)註真空(kong)泵(beng)與係(xi)統(tong)設計製(zhi)造(zao)16年(nian)
額(e)定(ding)流量(liang):100m³/h(50Hz)
極(ji)限(xian)壓(ya)力≤1x10-3mbr(abs)
電(dian)壓(ya):320-440(50Hz)
功率(lv):0.4Kw
口(kou)逕(jing):VG5...
額(e)定流(liu)量(liang):300m³/h(50Hz)
極(ji)限(xian)壓力≤1x10-3mbr(abs)
電(dian)壓:320-440(50Hz)
功率(lv):0.75Kw
口逕:VG...
額(e)定流(liu)量(liang):500m³/h(50Hz)
極(ji)限(xian)壓(ya)力(li)≤1x10-3mbr(abs)
電(dian)壓:320-440(50Hz)
功(gong)率:2.2Kw
口逕:VG6...
額定流(liu)量(liang):1100m³/h(50Hz)
極限壓(ya)力≤1x10-3mbr(abs)
電壓:320-440(50Hz)
功率:3.7Kw
口逕:VG...
可應用(yong)于:蒸髮(fa)鍍膜(mo)、磁(ci)控濺射(she)、捲繞(rao)鍍(du)膜(mo)、離(li)子鍍膜、光(guang)學鍍膜等;單晶(jing)鑪、多晶鑪(lu)、真空(kong)熱(re)處(chu)理(li)鑪(lu)、燒結(jie)鑪、...
可(ke)應(ying)用于(yu):蒸髮(fa)鍍(du)膜(mo)、磁控(kong)濺射、捲(juan)繞(rao)鍍(du)膜、離子(zi)鍍膜(mo)、光學(xue)鍍(du)膜等;單晶(jing)鑪、多晶鑪(lu)、真空熱(re)處(chu)理(li)鑪(lu)、燒結鑪、...
可應用于(yu):蒸髮(fa)鍍(du)膜、磁(ci)控濺射(she)、捲繞(rao)鍍膜、離(li)子鍍膜、光學(xue)鍍膜等;單(dan)晶(jing)鑪(lu)、多(duo)晶鑪(lu)、真(zhen)空熱處(chu)理(li)鑪、燒結(jie)鑪(lu)、...
可(ke)應用于:蒸(zheng)髮(fa)鍍(du)膜(mo)、磁(ci)控(kong)濺(jian)射、捲繞鍍(du)膜、離子(zi)鍍(du)膜(mo)、光學鍍(du)膜等;單晶(jing)鑪(lu)、多(duo)晶(jing)鑪、真(zhen)空熱處(chu)理鑪(lu)、燒結鑪(lu)、...